日立分析仪器推出OE750 ——新一代高性能OES光谱仪,用于全面金属分析控制

编辑:易莱博 发布时间:2019-12-05

中国,2019年12月5日:日立分析仪器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是日立高新技术公司(TSE:8036)旗下的一家全资子公司,主要从事分析和测量仪器的制造和销售,其已推出一款开创性的OE750型新型直读光谱仪,用于铸造厂和金属生产中,要求严格的金属规格分析。

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由于复杂的供应链,以及作为基础材料使用的废旧金属数量的增加,铸造厂和金属制造商在控制熔体中的杂质和痕量元素时,面临着更多的压力。新型OE750型直读光谱仪具有前所未有的性能水平。它涵盖金属中所有元素的光谱,并实现对某些元素的最*低检出限。因此,此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平,可为众多铸造厂和金属制造商提供优质分析。

OE750实现高分辨率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。其中有四项专利正处于申请状态。因此,这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围;这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要,该分析仪可以满足新的ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法的要求。

OE750是铝铸件的理想光谱仪,因为它可以测定亚共晶和过共晶铝硅合金中含量极低的磷。它可以分析锑、铋、锶和钠,以及杂质和痕量元素,从而确保这些元素能够被控制在铝熔体中,以优化结构改造。创新性光学设计能实现更短的启动时间,因为光学系统的体积相对较小。这有助于那些需要在多点测量验证熔体质量的工厂实现高批量生产。

除了新的光学设计之外,OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台,具有优化层流设计,可降低氩气消耗,降低污染的可能性,并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%,并避免油气污染,从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

除创新性硬件技术外,新型OE750还包括可提高性能的软件。例如,它包括日立牌号数据库,该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准,减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。可选的炉料校正软件会自动计算添加至熔体中的正确材料量,使其符合规范。

日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示:“在过去,铸造厂和金属加工企业在购买仪器时,不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750,他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”

关于日立分析仪器:

日立分析仪器是日立高新技术集团于2017年7月组建的全球性公司。该公司总部位于英国牛津,其在芬兰、德国和中国设立有研发中心和组装工厂,并在全球多个国家建立有销售和支持机构。我们的产品类别包括:

移动式和台式OES系列:广泛应用于全球各行各业中,快速和精确的金属分析。直读光谱技术可测定所有重要元素,并提供低检测限和高精度,包括钢中的碳和几乎所有金属中所有技术相关的主要和痕量元素。

   X-MET8000手持式光谱仪:使用精*准的XRF技术为成千上万的企业提供简单、快速和无损的材料分析。例如合金分析、废金属分拣和金属牌号筛选。

  Vulcan手持式分析仪:使用激光诱导击穿光谱(LIBS)技术,只需一秒即可识别金属合金,是世界上分析速度最快的分析仪之一。这对需要处理大量金属的企业而言非常有利。

 X-Strata和FT系列微焦斑XRF光谱仪:可测量单层和多层镀层(包括合金层)的镀层厚度,专为质量控制、过程控制以及实验室研究而设计

 Lab-X5000和X-Supreme8000台式XRF光谱仪:可为石油、木材处理、水泥、矿物、采矿和塑料等多种行业提供质量保证和过程控制服务。

关于日立高新技术公司:

日立高技术公司总部位于日本东京,从事分析和医疗解决方案(临床分析仪、生物技术产品和分析仪器的制造和销售)等多个领域的活动,纳米技术解决方案(半导体制造设备和分析设备的制造和销售)和工业解决方案(在社会和工业基础设施及移动性等领域提供高附加值解决方案)。

[来源:日立分析]

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